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20 dic. 2016
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New York Fashion Week: EPSON apuesta de nuevo por el talento latino

Publicado el
20 dic. 2016

Por tercer año consecutivo, EPSON apuesta por el talento latino para su exhibición en la semana de la moda de Nueva York. luego del gran éxito que gozó durante la sesión de febrero de este año, la japonesa repite. 


EPSON invita diseñadores latinos a su show en el New York Fashion Week por tercer año consecutivo. - Official

 

En la edición pasada de la gran exhibición de moda en Nueva York, EPSON invitó a un selecto grupo de diseñadores, entre ellos más de 6 latinos, para que realizaran sus colecciones con bases textiles realizadas con la nueva maquinara textil de EPSON en el “Digital Couture Project” de la japonesa. 

En esta oportunidad, entre los seleccionados a exponer su colección en las pasarelas de la gran manzana están los costarricenses Sonia Chang Díaz y Daniel del Barco, quienes expondrán innovaciones digitales en impresión de sublimación con altísima fidelidad de color, logradas con la nueva maquinaria japonesa. 

Los diseñadores latinos siguen haciendo historia y tejiendo sus carreras cada vez más cerca de los grandes exponentes de la moda mundial. 

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